NanoShield PVD Ion Plating Thailand
 นาโนชีลด์ 



ประวัติของบริษัท
   
บจก.นาโนชีลด์ เป็นหนึ่งในบริษัทของคนไทยจำนวนน้อย ที่อาศัยการพัฒนาเทคโนโลยีด้วยตนเอง เป็นพื้นฐานการดำเนินงานของบริษัท (Self Acquired Technology Firm) ความอยู่รอดของบริษัท ท่ามกลางการแข่งขันกับ บริษัทข้ามชาติ ตลอดจนการเห็นความสำคัญของการวิจัยพัฒนา คือกลไกสำคัญที่ผลักดันให้เราก้าวมาจนถึงเวลานี้  ซึ่งทำให้เราได้รับสิทธิบัตรเรียบร้อยแล้วหลายฉบับ

นอกจากนี้ เรายังเป็นบริษัทของคนไทย บริษัทเดียวในประเทศไทย ที่ประกอบธุรกรรมทางด้าน PVD Thin Film Technology / Surface Engineering ในปัจจุบัน

การเป็น เจ้าของเทคโนโลยี โดยไม่ต้องพึ่งพาต่างชาติ การเป็นผู้ประกอบการรายเดียวที่เป็นบริษัทของคนไทยในประเทศ 
ตลอดจนความสามารถในการต่อยอดเทคโนโลยีโดยมีต้นทุนต่ำ 

ทำให้เราเป็นผู้ที่สามารถ นำท่านเข้าสู่โอกาส ในการเติบโตทางธุรกิจ PVD นี้ ซึ่งมีทิศทางการขยายตัว มากขึ้นเรื่อยๆในตลาดโลก และยังได้รับการจัดอันดับจากผู้เชี่ยวชาญ ให้เป็น 1 ใน 20 เทคโนโลยีชั้นนำที่น่าลงทุนที่สุดในศตวรรษนี้

ความสำเร็จของเรา ทำให้ทางบริษัท ได้รับรางวัล "1 ใน 10 รางวัลนวัตกรรมแห่งชาติ" ในปีคศ. 2005 จาก  สำนักงานนวัตกรรมแห่งชาติ (NIA) และยังได้รับความสนใจร่วมทุนจาก สำนักงานส่งเสริมวิสาหกิจขนาดกลางและขนาดย่อม  หรือ สสว (OSMEP) ในปีคศ. 2006

การดำเนินงานของบริษัท ไม่ได้มุ่งเน้นเพียงกำไรทางธุรกิจเท่านั้น หากแต่เรายังเป็นส่วนหนึ่งในการถ่ายทอดเทคโนโลยี และยกระดับเทคโนโลยีสู่สถาบันการศึกษา และสถาบันวิจัยต่างๆในประเทศไทย มาโดยตลอด

การสนับสนุนของทุกท่าน ที่มีต่อบริษัท ย่อมหมายถึง การได้มีส่วนร่วม ในการพัฒนาเทคโนโลยี ของประเทศไทย ให้เจริญก้าวหน้า ทัดเทียมนานาอารยประเทศอีกด้วย

   NanoShield_Logo OSMEP_Thai TopTenAward ReadyForService

Small_PVD_Machine TiAlN-ColdForging Tool

ความสำเร็จของเรา

1996 จดสิทธิบัตรงานชุบ TiN บนผิวอโลหะประเภทกระเบื้อง, กระจก เพื่องานประดับตกแต่ง สิทธิบัตรออกให้เมื่อ 20 ตุลาคม 1999
 
1998 ปรับปรุงเครื่องจักรให้สามารถชุบงานทางวิศวกรรมได้ วางตลาดงานชุบ TiN บน tools & die ได้ตั้งแต่ปี 1998 

1998 – 1999 เคลือบฟิล์มพิเศษให้ผู้ผลิตไม้กอล์ฟรายใหญ่ของญี่ปุ่นแห่งหนึ่งซึ่งเป็นรุ่นพิเศษ มีจำนวนจำกัด (limited edition) และเพื่อการส่งออกทั้งหมด 

1999 ค้นพบวิธีการสร้างฟิล์ม TiAlN บนผิว tools & die วางตลาด TiAlN ในปี 1999 โดยไม่ต้องซื้อเทคโนโลยีต่างชาติ ซึ่งฟิล์ม TiAlN หรือ AlTiN ชนิดนี้สังเคราะห์ด้วยวิธีพิเศษคือ ใช้เทคโนโลยี co-deposition ของ AlN กับ TiN ซึ่งเป็นวิธีที่ทำได้ยากกว่าและให้ฟิล์มที่มีคุณภาพสูงกว่าแบบมาตรฐาน ทำให้ในโลกมีผู้ผลิตที่มีเทคโนโลยีอันนี้อยู่เพียงไม่กี่รายเที่นั้น

2000 พัฒนา plasma accelerator และ macro particles filter เพื่อทำให้ฟิล์มมีคุณภาพดีขึ้น

2001 พัฒนาวิธีการสร้างฟิล์ม TiZrN บนผิว tools & die วางตลาด TiZrN ในปี 2001 โดยไม่ต้องซื้อเทคโนโลยีต่างชาติ จดสิทธิบัตร plasma accelerator และ macro particles filter

2002 – 2004 รับบรรยายพิเศษให้กับมหาวิทยาลัย (สุรนารี, พระจอมเกล้าลาดกระบังฯ, พระจอมเกล้าธนบุรีฯ) และส่วนราชการ ( การไฟฟ้านครหลวง, ชมรมนักอุตสาหกรรมยุคใหม่ - ภายใต้การดูแลของสวทช., กรมส่งเสริมอุตสาหกรรม )  ในหัวข้อ เทคโนโลยี PVD โดยเฉพาะ  Cathodic  Arc Plasma Deposition - CAPD ปรับปรุงวิธีการเคลือบผิวตลอดจนโครงสร้างของสารเคลือบ AITiN และTiN
   
2003 – 2004 รับเป็นที่ปรึกษาร่วม ในการทำปริญญานิพนธ์ของนักศึกษา มหาวิทยาลัยพระจอมเกล้าธนบุรี ในเรื่องที่เกี่ยวกับการปรับปรุงเครื่องจักร และระเบียบวิธีการเคลือบผิว ของเทคโนโลยีPVD

2005 ได้รับการจัดอันดับ 1 ใน 10 รางวัลนวัตกรรมแห่งชาติประจำปี  2005  ด้านเศรษฐกิจ เรื่อง "Thin Film Technology by  PVD "  จาก สำนักงานนวัตกรรมแห่งชาติ

2006 – 2007 พัฒนาเครื่องเคลือบผิว PVD ต้นแบบ เพื่อการเคลือบผิว เพื่อผลทางวิศวกรรมผิววัสดุ  เป็นเครื่องแรกที่ออกแบบโดยคนไทย พร้อมเทคโนโลยีการเคลือบผิว Hard coating ที่ใช้งานได้จริง

2008 ได้รับสิทธิบัตรด้าน plasma accelerator และ macro particles filter วางตลาดเครื่องเคลือบผิว PVD สำหรับ Hard coating ในยี่ห้อ NanoShield 

2009 เราทำการพัฒนาและวางตลาดสารเคลือบที่ใช้เทคโนโลยีขั้นสูงสุดในยุคนี้ คือ Nanocomposite SuperHard coatings ได้เป็นรายแรกของประเทศไทย ทั้ง TiAlSiN และ AlCrTiN 

2010 พัฒนาและวางตลาด Nanocomposite AlCrTiSiN ซึ่งเป็นสารเคลือบผิวที่มีโครงสร้างซับซ้อนเป็นอย่างยิ่ง มีความสามารถในการปกป้องและช่วยในการหล่อลื่นได้ดีขึ้น 

2013 เปิดตัวสารเคลือบชนิดใหม่ที่มีโครงสร้างแบบเรียงซ้อนกันในระดับนาโนเมตร คือ Nano-laminated AlCrN (AlN/CrN) สำหรับเคลือบบนชิ้นงานแม่พิมพ์ขนาดใหญ่ การเปิดตัวของผิวเคลือบชนิดนี้มีขึ้นในปีเดียวกันกับผู้ผลิตรายหนึ่งในยุโรปที่อ้างว่าเป็นรายแรกของโลก 

2014 จดสิทธิบัตรกับ องค์การทรัพย์สินทางปัญญาโลก (WIPO)  ในนวัตกรรมการประดิษฐ์ตัวกรองพลาสมาแบบใหม่ที่มีการสูญเสียของพลาสมาน้อยมาก (Low Plasma Loss Filter) สิทธิบัตรได้รับการคุ้มครองแล้วในหลายประเทศ